स्वचालित फीडिंग और संग्रहण पतली फिल्म लघु पथ आंशिक आसवन मशीन
त्वरित विवरण
आणविक आसवन उच्च निर्वात में संचालित एक आसवन विधि है, जहाँ वाष्प के अणुओं का औसत मुक्त पथ वाष्पीकरण सतह और संघनक सतह के बीच की दूरी से अधिक होता है। इस प्रकार, तरल मिश्रण को फ़ीड तरल में प्रत्येक घटक के वाष्पीकरण दर के अंतर से अलग किया जा सकता है। किसी निश्चित तापमान पर, दबाव जितना कम होगा, गैस के अणुओं का औसत मुक्त पथ उतना ही अधिक होगा। जब वाष्पीकरण स्थान में दबाव बहुत कम (10-2 ~ 10-4 mmHg) होता है और संघनन सतह वाष्पीकरण सतह के करीब होती है, और उनके बीच ऊर्ध्वाधर दूरी गैस अणुओं के औसत मुक्त पथ से कम होती है, तो वाष्पीकरण सतह से वाष्पीकृत वाष्प अणु अन्य अणुओं से टकराए बिना सीधे संघनन सतह तक पहुँच सकते हैं और संघनित हो सकते हैं।
| प्रभावी वाष्पीकरण क्षेत्र: | 0.25 |
| मुख्य विक्रय बिंदु: | संचालित करने में आसान |
| घूर्णन गति: | 600 |
| मशीन का प्रकार: | शॉर्ट पाथ डिस्टिलर |
| शक्ति: | 250 |
| सामग्री: | 3.3 बोरोसिलिकेट ग्लास |
| प्रक्रिया: | निर्वात आसवन |
| वारंटी के बाद सेवा: | ऑनलाइन समर्थन |
उत्पाद वर्णन
● उत्पाद विशेषता
| नमूना | एसपीडी-80 | एसपीडी-100 | एसपीडी-150 | एसपीडी-200 |
| फ़ीड दर (किग्रा/घंटा) | 4 | 6 | 10 | 15 |
| प्रभावी वाष्पीकरण क्षेत्र (वर्ग मीटर) | 0.1 | 0.15 | 0.25 | 0.35 |
| मोटर पावर(w) | 120 | 120 | 120 | 200 |
| अधिकतम गति(आरपीएम) | 500 | 500 | 500 | 500 |
| बैरल व्यास (मिमी) | 80 | 100 | 150 | 200 |
| फीडिंग फनल वॉल्यूम(लीटर) | 1 | 1.5 | 2 | 5 |
| आयाम (मिमी) | 2120*1740*628 | 2120*1740*628 | 2270*1940*628 | 2420*2040*628 |
| आंतरिक कंडेनसर क्षेत्र (मी) | 0.2 | 0.3 | 0.4 | 0.5 |
| आसुत प्राप्ति पात्र आयतन(लीटर) | 1 | 2 | 5 | 10 |
| अवशेष प्राप्त करने वाले बर्तन का आयतन (लीटर) | 1 | 2 | 5 | 10 |
| वाइपर | PTFE खुरचनी | PTFE खुरचनी | PTFE खुरचनी | PTFE खुरचनी |
अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
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हम प्रयोगशाला उपकरणों के पेशेवर निर्माता हैं और हमारा अपना कारखाना है।
2. आपका डिलीवरी समय कितना है?
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शिपमेंट से पहले या ग्राहकों के साथ बातचीत के अनुसार 100% भुगतान। ग्राहकों की भुगतान सुरक्षा के लिए, ट्रेड एश्योरेंस ऑर्डर की अत्यधिक अनुशंसा की जाती है।
